長處

• 測量質(zhì)量數(shù)范圍 1~200 amu
• 在反應(yīng)過程中進行長期穩(wěn)定的測量
• 通信接口，以太網(wǎng)
• 采用帶磁場的 Claude 離子源軟
  電離可減少氣體解離，并防止由于電離室中的熱反應(yīng)而分解和吸附，這是高度敏感的。
• 緊湊的流路控制閥：
  縮短了從工藝腔室到離子源的距離，實現(xiàn)了快速響應(yīng)消解
• 10^-6 至 13 kPa 在較寬的壓力范圍內(nèi)進行測量（通過孔口選擇）
• 無需 PC 即可進行測量
• 一鍵式功能（人人輕松，無需復(fù)雜作）
• 連接到傳感器單元時，可以進行高達 120°C 的高溫烘烤。
• 離子源、二次電子倍增管的預(yù)防性維護和分析管的可追溯性功能（正在申請**）
• 可進行氦氣泄漏測試、空氣泄漏測試、粘附測試
• 內(nèi)置軟件（兼容 Windows 8/10/11）

用

CVD、ALD 和蝕刻設(shè)備

• 過程中的反應(yīng)氣體監(jiān)測
• 蝕刻和清潔過程的端點監(jiān)控
• 殘余氣體測量
• 泄漏測試

規(guī)范