長(zhǎng)處

• 測(cè)量質(zhì)量數(shù)范圍 1~200 amu
• 在反應(yīng)過程中進(jìn)行長(zhǎng)期穩(wěn)定的測(cè)量
• 通信接口，以太網(wǎng)
• 采用帶磁場(chǎng)的 Claude 離子源軟
  電離可減少氣體解離，并防止由于電離室中的熱反應(yīng)而分解和吸附，這是高度敏感的。
• 緊湊的流路控制閥：
  縮短了從工藝腔室到離子源的距離，實(shí)現(xiàn)了快速響應(yīng)消解
• 10^-6 至 13 kPa 在較寬的壓力范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量（通過孔口選擇）
• 無需 PC 即可進(jìn)行測(cè)量
• 一鍵式功能（人人輕松，無需復(fù)雜作）
• 連接到傳感器單元時(shí)，可以進(jìn)行高達(dá) 120°C 的高溫烘烤。
• 離子源、二次電子倍增管的預(yù)防性維護(hù)和分析管的可追溯性功能（正在申請(qǐng)**）
• 可進(jìn)行氦氣泄漏測(cè)試、空氣泄漏測(cè)試、粘附測(cè)試
• 內(nèi)置軟件（兼容 Windows 8/10/11）

用

CVD、ALD 和蝕刻設(shè)備

• 過程中的反應(yīng)氣體監(jiān)測(cè)
• 蝕刻和清潔過程的端點(diǎn)監(jiān)控
• 殘余氣體測(cè)量
• 泄漏測(cè)試

規(guī)范